CMF DESIGN 45

両面意匠の新素材、”ダブルフェイスTPO”

 

両面意匠という新しい特徴を伝える為に、ユニバーサルに組み合わせできるデザインを作製した。軽量という素材の特徴を活かし、真空成形したピースを繋ぎ合わせ、大きな面を創った。たとえば室内パーテーションなどで両面を使用したい場合などを想定している。また多面体形状のパネルに、独自技術で作成したシボを施すことで、光の反射によって表情が変化する。色とシボ、表面と裏面それぞれの組み合わせで幅広い意匠を見せ、触った時の触感にもこだわり、高い魅力を伝えられるよう考えた。
 

技術：共和レザー株式会社